![模拟电子系统设计指南(基础篇):从半导体、分立元件到TI集成电路的分析与实现](https://wfqqreader-1252317822.image.myqcloud.com/cover/808/47378808/b_47378808.jpg)
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2.5 结电流密度
在P区x=-xp的边缘处,从N区流到P区的电荷产生的电子电流密度表示为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_6.jpg?sign=1739395394-WK2YDa3QljzC3H97YvrbgvRFy6Rw0PPq-0-f8bf36882e35bccd229a2451efd6a706)
式中,Dn为少子电子的扩散密度;Ln为少子电子的扩散长度,其与 Dn及少子寿命 τno的关系为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_7.jpg?sign=1739395394-Q1EMnla5ry3hXupz6yQXIXsCabNgTkFX-0-84457275b3a8456612a2501ceae229e4)
少子寿命定义为P区少子电子与P区多子空穴进行复合的平均时间。同理,在N区x=xn的边缘处,从P区流到N区的电荷产生的空穴电流密度表示为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_8.jpg?sign=1739395394-QySFr2lzdxQYZnoT5WSuDGFt68IA4AQl-0-11e814ea706f5dcf894591da62415ab1)
Dp为少子空穴的扩散密度;Lp为少子空穴的扩散长度,其与Dp以及少子寿命τpo的关系为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_9.jpg?sign=1739395394-6kJjebSjLF2uk4uqxSndbL3KScXML3Gs-0-dd568c2f54ae25d0788b40d97af7b26e)
因此,流过PN结的总电流密度为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_10.jpg?sign=1739395394-8XXHqFosxFo4F6E3poyfZlOcvUzb4Uch-0-c4e0cb83d4ebae497f487a7a7709d93c)
将此式写成更通用的形式:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/40_1.jpg?sign=1739395394-VK8t7n62Jqf2oCcJKIW53YtPbvX14YmN-0-efb0c8c0b1533ace4b2a7c140979013b)
式中,参数J s为反向饱和电流密度,取决于PN结的物理参数,表示为
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/40_2.jpg?sign=1739395394-IimfuirlcAokdUO4MWWMUC5I0jPY3b35-0-5ae43a71d1762fa2acb837d2e4a262d2)
式 (2.31) 即适用于正值 (正向偏置条件),也适用于负值 (反向偏置条件)。因此,二极管的电流等于电流密度JS与PN结横截面积Apn的乘积,表示为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/40_3.jpg?sign=1739395394-twQCtPX0QuuRSVzBL7IwW3kuq12E8iwT-0-bfcff6b1edc065ad8631504125b7e8e9)
式中,IS为反向饱和电流;vD为施加的电压;η为常数,其范围1~2,与实际二极管的制造工艺有关。式 (2.33) 描述了肖特基势垒结的特性。
注:vD >0 为正向偏置条件,vD <0 为反向偏置条件。